スパッタの低パワー化によるMoS<sub>2</sub>薄膜のキャリヤ濃度低減

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第65回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 20a-C202-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.1.0_4033

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 65

開催地: 早稲田大学・ベルサール高田馬場

開催日: 2018/03/17 - 2018/03/20

スパッタの低パワー化によるMoS₂薄膜のキャリヤ濃度低減

*坂本拓朗, 大橋匠, 松浦賢太朗, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整

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キーワード: 20a-C202-6, ナノカーボン, 層状物質, 成長技術, 二硫化モリブデン, スパッタリング

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