応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第65回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 20a-C202-5
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 65

開催地: 早稲田大学・ベルサール高田馬場

開催日: 2018/03/17 - 2018/03/20

Migration制御したスパッタリング法による2次元層状MoS2成膜
*大橋 匠, 坂本 拓朗, 松浦 賢太朗, 清水 淳一, 外山 真矢人, 石原 聖也, 日比野 祐介, 宗田 伊理也, 角嶋 邦之, 筒井 一生, 小椋 厚志, 若林 整
著者情報
キーワード: 20a-C202-5, ナノカーボン, 層状物質, 成長技術, 二硫化モリブデン, スパッタリング法, マイグレーションエネルギー
会議録・要旨集 フリー

詳細
PDFをダウンロード (276K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
メタデータのダウンロード方法
発行機関連絡先
記事の1ページ目
著者関連情報
© 2018 公益社団法人 応用物理学会
前の記事 次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
このページを共有する
feedback
 Top