Siネットワーク秩序性に対する製膜前駆体の効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 20a-438-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_1731

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

Siネットワーク秩序性に対する製膜前駆体の効果

*古閑一憲, 田中和真, 原尚志, 石榴, 中野慎也, 山下大輔, 鎌瀧晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

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キーワード: 20a-438-11, プラズマエレクトロニクス, プラズマ成膜・エッチング・表面処理, CVD・PVD・スパッタリング, プラズマCVD, シリコン結合構造

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