Lateral etching of HfN<sub>0.5</sub> narrow line utilizing diluted HF solution

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

The 79th JSAP Autumn Meeting 2018

セッションID: 21p-135-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_2788

会議情報

主催: The Japan Society of Applied Physics

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

Lateral etching of HfN_0.5 narrow line utilizing diluted HF solution

*Yizhe Ding, Rengie Mark D Mailig, Sohya Kudoh, Shun-ichiro Ohmi

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キーワード: 21p-135-11, wet etching, narrow line

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© 2018 The Japan Society of Applied Physics

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