多様な結晶構造を有するSiO<sub>2</sub>膜へのH<sub>2</sub>O分子透過

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 20a-PA5-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_2831

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

多様な結晶構造を有するSiO₂膜へのH₂O分子透過

*奥友希, 戸塚正裕, 佐々木肇

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キーワード: 20a-PA5-1, 半導体, 絶縁膜技術, シリコン酸化膜／シリコン酸窒化膜／シリコン窒化膜, 酸化シリコン, 耐湿性, 分子軌道計算法

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