応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第79回応用物理学会秋季学術講演会
セッションID: 21a-145-8
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

硬X線光電子分光法(HAXPES)による強誘電体HfSiO MIM構造積層膜の化学結合状態解析
*臼田 宏治, 上牟田 雄一, 株柳 翔一, 吉木 昌彦, 富田 充裕, 齋藤 真澄
著者情報
キーワード: 21a-145-8, 半導体, 絶縁膜技術, メモリデバイス用絶縁膜（浮遊ゲート型、チャージトラップ型、抵抗変化型等）, HAXPES, 強誘電性トンネル接合
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