第79回応用物理学会秋季学術講演会
セッションID: 21a-233-9
会議情報
主催: 公益社団法人 応用物理学会
会議名: 応用物理学会秋季学術講演会
回次: 79
開催地: 名古屋国際会議場
開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21
イオンビームミキシングを併用したイオンビーム誘起結晶成長法による水素終端上非晶質Si層のエピタキシャル成長
キーワード:
21a-233-9,
半導体,
Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術,
エピタキシャル成長／CVD／スパッタ,
イオンビーム誘起結晶成長法,
イオンビームミキシング,
水素終端化Si
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