応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第79回応用物理学会秋季学術講演会
セッションID: 21a-233-10
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

ミニマルCVD装置におけるシリコンエピタキシャル製膜の高速化
*高橋 俊範, 室井 光子, 松尾 美弥, 羽深 等, 池田 伸一, 石田 夕起, 原 史朗
著者情報
キーワード: 21a-233-10, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術, エピタキシャル成長／CVD／スパッタ, ミニマル, 製膜過程, 温度
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