反応性スパッタ法を用いた無極性AlN薄膜成長における自己電圧効果の検討

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 21p-146-13

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2018.2.0_3354

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 79

開催地: 名古屋国際会議場

開催日: 2018/09/18 - 2018/09/21

反応性スパッタ法を用いた無極性AlN薄膜成長における自己電圧効果の検討

*立島滉大, 長田貴弘, 石橋啓次, 高橋健一郎, 鈴木摂, 小椋厚志, 知京豊裕

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キーワード: 21p-146-13, 結晶工学, III-V族窒化物結晶, 成長（MBE, スパッタリング）, AlN, 無極性, スパッタ

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