スパッタ法を用いたSi基板上へのPZTエピタキシャル薄膜の作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第66回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 10a-PA3-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.1.0_1210

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 66

開催地: 東京工業大学大岡山キャンパス

開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12

スパッタ法を用いたSi基板上へのPZTエピタキシャル薄膜の作製

*村瀬幹生, 和泉享兵, 吉村武, 藤村紀文

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キーワード: 10a-PA3-1, 薄膜・表面, 強誘電体薄膜, 強誘電体・高誘電率薄膜, 強誘電体, Pb(Zr,Ti)O3

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