Si 基板上 SiO<sub>2</sub>薄膜の電子線照射による還元反応：AFM および AES 像測定

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第66回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 10p-PA5-3

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.1.0_1454

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 66

開催地: 東京工業大学大岡山キャンパス

開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12

Si 基板上 SiO₂薄膜の電子線照射による還元反応：AFM および AES 像測定

*藤森敬典, 千田陽介, 増田悠右, 氏家夏樹, 遠田義晴

著者情報

キーワード: 10p-PA5-3, 薄膜・表面, 表面物理・真空, 表面, シリコン酸化膜, 還元反応, 電子線照射効果

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2019 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top