The 66th JSAP Spring Meeting 2019
セッションID: 10a-W934-5
会議情報
主催: The Japan Society of Applied Physics
会議名: 応用物理学会春季学術講演会
回次: 66
開催地: 東京工業大学 大岡山キャンパス
開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12
Molecular Dynamics Simulation of SiO2 Substrate Etching by NF2+ and C2F5+ ions
キーワード:
10a-W934-5,
simulation
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