応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第66回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 11a-W934-4
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 66

開催地: 東京工業大学 大岡山キャンパス

開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12

結晶Si膜の低温形成に向けたSiH4ガスのプラズマ改質
*浜中 恵一, 垣内 弘章, 安武 潔, 大参 宏昌
著者情報
キーワード: 11a-W934-4, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術, TFT/Si/Ge etc./薄膜結晶化/レーザーアニール, プラズマ, シラン, 改質
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