応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第66回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 9a-M121-8
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 66

開催地: 東京工業大学 大岡山キャンパス

開催日: 2019/03/09 - 2019/03/12

再成長AlGaNによるAl2O3/AlGaN/GaN構造の絶縁膜/半導体界面特性の向上
*河端 晋作, アスバル ジョエル, 徳田 博邦, 山本 暠勇, 葛原 正明
著者情報
キーワード: 9a-M121-8, 半導体, 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術, 窒化物半導体電子デバイス・回路, GaN, 再成長, 絶縁膜/半導体界面
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© 2019 公益社団法人 応用物理学会
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