蒸着中の原料状態がBaSi<sub>2</sub>薄膜の品質に与える影響

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 21a-PA3-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.2.0_3016

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

蒸着中の原料状態がBaSi₂薄膜の品質に与える影響

*西尾聡馬, 内藤友紀, 西野克志

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キーワード: 21a-PA3-6, 半導体, 探索的材料物性・基礎物性, シリサイド半導体，環境半導体, バリウムシリサイド

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