シリコンナノピラー熱酸化のTEMトラッキング評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 19a-E305-1

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.2.0_3022

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

シリコンナノピラー熱酸化のTEMトラッキング評価

*和光拓人, 仮屋崎弘昭, 黒田周, 宮本聡, 藤森洋行, 遠藤哲郎, 伊藤公平

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キーワード: 19a-E305-1, 半導体, 絶縁膜技術, 成膜手法／評価手法, Siナノピラー, 縦型BC-MOSFET, 酸化

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