高圧水蒸気中での陽極酸化法により成膜したシリコン酸化膜の電気特性

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第67回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 15a-A305-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2020.1.0_2640

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 67

開催地: 上智大学四谷キャンパス

開催日: 2020/03/12 - 2020/03/15

高圧水蒸気中での陽極酸化法により成膜したシリコン酸化膜の電気特性

*堅田卓弥, 角田将紀, 呉研, 高橋芳浩

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キーワード: 15a-A305-2, 半導体, 絶縁膜技術, 成膜手法／評価手法, 陽極酸化法, 高圧水蒸気中, シリコン酸化膜

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