応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第67回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 15a-A305-1
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 67

開催地: 上智大学 四谷キャンパス

開催日: 2020/03/12 - 2020/03/15

Si酸化膜中放出Siの理論検討
*影島 博之, 矢島 雄司, 白石 賢二, 遠藤 哲郎
著者情報
キーワード: 15a-A305-1, 半導体, 絶縁膜技術, シリコン酸化膜／シリコン酸窒化膜／シリコン窒化膜, シリコン酸化, 第一原理計算
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