応用物理学会学術講演会講演予稿集
Online ISSN : 2436-7613
第68回応用物理学会春季学術講演会
セッションID: 19p-Z02-5
会議情報

主催: 公益社団法人 応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

ホットSi+イオン注入法を用いた酸化膜中のSi量子ドットの形成
吉水 一真, *村川 洸紀, 青木 孝, 鮫島 俊之, 水野 智久
著者情報
キーワード: 19p-Z02-5, 半導体, ナノ構造・量子現象・ナノ量子デバイス, ナノ構造成長・作製, 量子ドット, Si, ホットイオン注入
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