高密度非晶質Ge薄膜のNi誘起横方向成長

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 17a-Z33-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2650

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

高密度非晶質Ge薄膜のNi誘起横方向成長

*石山隆光, 今城利文, 末益崇, 都甲薫

著者情報

キーワード: 17a-Z33-6, 結晶工学, IV族結晶，IV-IV族混晶, 結晶成長, Ge, 金属誘起成長, 薄膜

会議録・要旨集フリー

詳細

記事の1ページ目

著者関連情報

© 2021 公益社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

Top