窒化膜から導入されたシリコン基板中の水素の熱的挙動

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 19a-Z29-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2703

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

窒化膜から導入されたシリコン基板中の水素の熱的挙動

*棚橋克人, 白澤勝彦, 平藤駿介, 高遠秀尚

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キーワード: 19a-Z29-5, 結晶工学, 結晶評価，不純物・結晶欠陥, その他, シリコン, 水素, 熱的挙動

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