原子層堆積法(ALD)法を用いて作製したSiO<sub>2</sub>膜の表面パッシベーション効果

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 18a-Z29-7

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2761

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

原子層堆積法(ALD)法を用いて作製したSiO₂膜の表面パッシベーション効果

*薄謙志郎, 望月敏光, 棚橋克人, 高遠秀尚, 山口克彦

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キーワード: 18a-Z29-7, 非晶質・微結晶, シリコン系太陽電池, パッシベーション技術, 原子層堆積法, シリコン酸化膜

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