Ga-Ni溶液を用いた絶縁基板上での多層グラフェン核の直接成長

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 17a-Z31-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2845

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

Ga-Ni溶液を用いた絶縁基板上での多層グラフェン核の直接成長

*深見健司, 丹羽和希, 小林裕太, 丸山隆浩, 成塚重弥

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キーワード: 17a-Z31-5, ナノカーボン, グラフェン, 成長技術, グラフェン, 液相成長, Ga-Ni触媒

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