含フッ素ポリマーを用いた物理蒸着法による低屈折率反射防止薄膜の作製

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第82回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 22p-P04-5

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.2.0_2104

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 82

開催地: ハイブリッド開催（名城大学＆オンライン）

開催日: 2021/09/10 - 2021/09/23

含フッ素ポリマーを用いた物理蒸着法による低屈折率反射防止薄膜の作製

*安井爽眞, 大石不二夫, 田中邦明, 臼井博明

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キーワード: 22p-P04-5, 有機分子・バイオエレクトロニクス, 作製・構造制御, ドライプロセス（真空蒸着，CVD）, 薄膜, 真空, 光学

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