メスバウアー効果を用いたFe-Al-Si-Ni薄膜の構造解析

抄録

膜厚1μmのFe-Al-Si-Ni薄膜をrfマグネトロンスパッタリングにより結晶化ガラス基板上に作製し,熱処理による磁気特性の変化と微視的構造変化を調べた。薄膜試料は500℃の熱処理で,磁気ヘッド材料としそ良好な軟磁気特性が得られた。さらに,1.48Tの高い飽和磁束密度が得られた。内部転換電子メスバウアー分光法により,α型の不規則構造をもつ作製直後の薄膜は500℃の熱処理によりB2およびDO₃型の混在した規則構造へ相転移することが見出された。