1402 FDTD法によるレーザー光散乱解析 : SOIウェーハの表面検査(OS14.シリコンとシミュレーション(1),OS・一般セッション講演)

抄録

SOIウェーハ特有の特定形状欠陥(Top-Si膜のボイド)の散乱挙動を、FDTD法の汎用電磁気解析ソフトで解析した結果について報告する。