マイクロ・ナノ工学シンポジウム
Online ISSN : 2432-9495
セッションID: P-G2-6
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P-G2-6 デスクトップDRIEを用いたチタニウム微細加工(P-G2 マイクロナノ材料・構造,ポスターセッション論文)
山田 悠貴, 田村 卓也, 加勢 彩乃, 山田 周史, 浅地 豊久, 人母 岳, 鍋澤 浩文, 安部 隆
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抄録
This paper reports micromachining of titanium using a desktop DRIE. We found that super-high-speed exhaust characteristics is indispensable in the etching of titanium, and etching rate more than 0.2 μm/min was realized with a small amount of etching gas(SF_6). Titanium has good mechanical properties and corrosion resistance, and it is expected as a material of MEMS. Three-dimensional through etching of titanium is possible by using our etcher, and we expect the etcher to be useful for the fabrication of titanium based sensors and actuators.
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© 2012 一般社団法人 日本機械学会
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