抄録
イネモノガラクトシルジアシルグリセロール合成酵素 (OsMGD)（UDP-galactose + diacylglycerol → UDP + monogalactosyldiacylglycerol）の過剰発現タバコを作出した。本酵素の発現は、イムノブロット、酵素活性で確認した。本植物でmonogalactosyldiacyl-glycerol, digalactosyldiacyl glycerolの両糖脂質が増加した。本酵素の細胞内局在性は葉緑体の内膜であった。過剰発現タバコの葉緑体で、チラコイド膜のグラナ構造が密であることが電顕観察で確認された。過剰発現タバコは塩に耐性を示すことが、成長、クロロフィル蛍光測定で確認された。興味深いことに本植物はリン欠乏ストレスに耐性を示した。過剰発現植物は糖脂質を増加させ、葉緑体の膜構造を強化させることで、塩ストレス耐性を示したと思われる。リン欠乏によるリン脂質の低下を糖脂質が代替することでリン欠乏耐性が上昇したと思われる。
