分子線エピタキシー型装置を用いたエンスタタイト形成実験

抄録

宇宙空間でのフォルステライトとケイ素に富んだガスとの反応に関する実験的研究を分子線エピタキシー型実験装置を用いておこなった．実験生成物を分析した結果，表面反応層は非晶質であることがわかった．表面非晶質反応層の組成はO/Si < 2であることが示唆され，SiO非晶質層が形成されている可能性が高い．実際の宇宙空間のガスは，Si/O >> 2 であるため，酸素を導入した実験をおこなう必要があるが，実験結果は晩期星周環境でのフォルステライトとガスとの反応による結晶質エンスタタイト形成が起こりにくい可能性を示唆する．