デザイン学研究
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コンピュータによるマーク、ロゴタイプの研究と制作(2)(第31回研究発表大会)
下村 千早
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1984 年 1984 巻 48 号 p. 45-

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抄録

この研究はマーク、ロゴタイプの制作プロセスを、コンピュータを用いてシミュレートする方法でその組成と構造を分析し、それに基づいたデザインモデルを作り、その実際の制作をしようとするものである。前回は記号学からみたマーク、ロゴの視覚的性質及び、その形体の組成要因の階層性について考察した。そして入出力、変換、データ構築の基本的システムを制作し、それによる制作実験では直線と円弧のみを使った外形のデザインをした。その結果、モダンな形体のマーク、ロゴの約半数が直線と円弧の合成で再現できることがわかった。

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© 1984 日本デザイン学会
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