RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の成長 (I)

真空

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RF反応性スパッタリングによるZnO薄膜の成長 (I)

清水安元, 伊ケ崎泰宏, 島岡五朗

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ジャーナルフリー

1983 年 26 巻 5 号 p. 419-422

DOI https://doi.org/10.3131/jvsj.26.419

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