マイクロプラズマを光源に用いた真空紫外吸収分光法による原子密度計測
2001 年 44 巻 9 号 p. 802-807
詳細
2001 年 44 巻 9 号 p. 802-807
プロセスプラズマ中の水素原子絶対密度計測のため, マイクロプラズマを光源に用いた真空紫外吸収分光システムの開発を行った.光源の自己吸収は, 水素分圧7Pa以下にすることで, 計測に影響のないレベルまで低減できることが判明した.また, 光源の発光プロファイルは, 水素原子温度400Kのドップラー拡がりとドップラー拡がりの2倍のローレンツ拡がりからなるフォークト型であると見積もられた.このシステムを用い, 誘導結合型水素プラズマ中の水素原子絶対密度計測を行った.水素原子密度は, パワー100W, 流量100sccmにおいて, 圧力1.33Paから66.5Paの増加に伴い, 1.4×1011cm-3から1.2×1012cm-3へと増加した.
