酸化イットリウムを用いた高周波エピタキシャルグラフェン・トランジスタの高速キャリア輸送特性

抄録

グラフェンはその優れた物性から優れた高速キャリア輸送特性が期待され、実際我々は室温で10⁵ cm²/Vsを達成した。しかし、デバイスの実測値は、物性値からの理論値を下回る。我々はY自然酸化膜を採用して良好な絶縁膜/グラフェン界面を形成し、優れた高周波特性を有するデバイスの創出に取り組んでいる。本発表では、このデバイスの高周波キャリア輸送特性評価に基づくY自然酸化膜の優位性について報告する。