大電力パルススパッタによる薄膜構造制御と微小錐構造形成

抄録

大電力パルススパッタ(HPPMS)は数100Hzのパルス放電をduty比10%以下でカソードに印加し、瞬時電力を上昇させてプラズマ密度を高め、スパッタ粒子のイオン化を促す手法である。我々はHPPMSの電力波形や電極構成に工夫を加え、緻密な構造を持つ金属膜堆積や、高融点金属の微小な錐構造の形成にこれらが有効であることを示してきた。本講演では以上を概観し、現在実施している研究についても紹介する。