銅基板上へのトリアジン-チオール系分子薄膜形成過程の解明

抄録

6-triethoxysilylpropylamino-1,3,5-triazine-2,4-ditiol (TES)は金属に結合できるチオール基と樹脂に結合できる官能基(Siに結合する3つのエトキシ基)を併せ持つ。金属、樹脂表面に自己組織化膜を形成し、表面改質をすることが期待される。本研究では、XPS測定により銅基板上に形成したTES分子薄膜による基板表面改質や膜形成過程の解明に取り組んだ。