化学工学
Print ISSN : 0375-9253
水平型epitaxial装置内のフローパターンについて
半沢 保伊藤 宇太郎
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1970 年 34 巻 12 号 p. 1333-1338,a1

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抄録

水平型epitaxial装置内のフローパターンをみるために, この装置のモデルとして高温物体が管内底部にある水平円管内に気体を流す方法を採用し, この場合のフローパターンを煙と02ガスの各トレーサーを用いて測定した。その結果このような場合には管中央を上昇し, 側壁を下降しながら出口端に至る対称な2個の螺旋流が生じることを見出した。そしてこの場合, 各流線同士の混合はきわめて僅かであることから, この結果をepitaxial装置改良の考察に応用した。

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