高分子
Online ISSN : 2185-9825
Print ISSN : 0454-1138
ISSN-L : 0454-1138
中性子およびX線反射率測定による高分子薄膜の特性評価
山岡 仁史, 松岡 秀樹
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1993 年 42 巻 12 号 p. 984-985,967

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