低温プロセスによる良質なシリコン酸化物の形成

電気化学および工業物理化学

Online ISSN : 2434-2556
Print ISSN : 0366-9297

報文《電子材料》

低温プロセスによる良質なシリコン酸化物の形成

南條淳二, 山本秀和, 沢田孝幸, 長谷川英機

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ジャーナルフリー

1983 年 51 巻 5 号 p. 440-444

DOI https://doi.org/10.5796/kogyobutsurikagaku.51.440

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© 1983 公益社団法人　電気化学会

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