MOCVD法により生成したTa<sub>2</sub>O<sub>5</sub>-Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>混合膜の性質

電気化学および工業物理化学

Online ISSN : 2434-2556
Print ISSN : 0366-9297

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MOCVD法により生成したTa₂O₅-Al₂O₃混合膜の性質

岡田勝, 井戸敏之, 森山昭

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1985 年 53 巻 10 号 p. 802-806

DOI https://doi.org/10.5796/kogyobutsurikagaku.53.802

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© 1985 公益社団法人　電気化学会

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