結晶性高分子であるシンジオタクチックポリスチレン(sPS)をスルホン化した後にキャストを行うことによって，炭化水素系電解質膜を作製した．作製した膜は結晶構造を維持しており，柔軟で取り扱いも容易であった．スルホン化時の硫酸添加量およびスルホン化時間の増加に伴って，イオン交換容量および含水率は増加した．膜抵抗は最も低いもので9.2 Ω · cmを示し，市販フッ素系電解質膜であるNafion117(10 Ω · cm)よりも低い値が得られた．この膜のイオン交換容量(2.2 mmol/g-dry memb.)と含水率(67%)はともにNafion117の2倍以上の値を示した．膜の含水率低減のために，加圧熱処理を検討したところ，含水率を低減させることはできたが膜抵抗が増加した．また，フェントン試験からsPSの結晶部が耐酸化劣化性の向上にも寄与することが示唆された．
