5-ジアゾ-メルドラム酸を用いた遠紫外線コントラスト・エンハンスト材料

遠藤 政孝; 笹子 勝; 平井 義彦; 小川 一文; 石原 健

doi:10.1295/koron.45.453

遠藤政孝, 笹子勝, 平井義彦, 小川一文, 石原健

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ジャーナルフリー

1988 年 45 巻 5 号 p. 453-455

DOI https://doi.org/10.1295/koron.45.453

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抄録

半導体フォトリソグラフィーにおけるレジストパターンの形状や解像性を向上させるコントラスト・エンハンスト・リソグラフィー (CEL) を遠紫外光に対して有効とすべき材料を考案した. 5-ジアゾーメルドラム酸とρ-クレゾール・ホルムアルデヒド・ノボラック樹脂, ジェチレングリコールジメチルエーテルより成るCEL材料は, 248nm において良好なコントラスト・エンハンスト効果を示し, 特に, KrFエキシマレーザーリングラフィーに有用である.

責任著者(Corresponding author)

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