高分子論文集
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FT-IR分光法によるポリジメチルシロキサン中溶存水の状態分析および溶存水の絶縁性低下に及ぼす作用
太田 浩司曽禰 元隆光井 英雄高岡 京
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2000 年 57 巻 11 号 p. 701-707

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抄録
ポリジメチルシロキサン (PDMSi) 中の溶存水が形成するクラスターをIRスペクトル法で検討し, 低分子シロキサン中および低分子エーテル化合物中溶存水の状態と比較した. また, 水クラスターの熱安定性を調べた. さらに含水PDMSiの導電率を計測し, PDMSiの絶縁性低下に及ぼすクラスターの効果について検討した.
PDMSi中溶存水は1対1型の結合水を主体とした小クラスターによって構成されている. 低分子エーテル化合物と比較して, >O周辺に集まる大型クラスターはほとんど形成されていない. この小クラスターは加熱に対して安定で, 100℃においても68%残存していた.
PDMSi中溶存水は総水分量180ppmまでは導電率の増加に寄与していないが180ppmを超えると水分量増加とともに導電率が増加する傾向を示した. この際 [>O・H2O] がもっとも伝導に寄与していることが明らかになった.
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