ケイ素と四塩化ケイ素の不均化反応
1965 年 68 巻 2 号 p. 262-265
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1965 年 68 巻 2 号 p. 262-265
静的測定法による蒸気圧測定装置を使用して,ケイ素と四塩化ケイ素の間で高温で生ずる,不均化反応を検討した。Schaferの使用した装置の簡略化した装置を試作し,反応には99.999%の粉末ケイ素と,再蒸留した四塩化ケイ素を使用した。使用した。石英製反応容器を昇温速度3℃/minで1300℃ まで加熱し,その間の圧力変化を各温度で測定し,これを,解析した結果,1100℃ 以上でSi+SiCl4=2SiCl2の反応式で表わされる反応が進行し,この反応の平衡定数はlogK=-16.21/T×103+10.72であたえられ, この反応熱は74.2±0.5kcal(1500°K) であることがわかった
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