日本化學雜誌
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ハロゲン置換シリカゲルの表面水酸基
多羅間 公雄吉田 郷弘谷口 捷生小坂 祥造
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1968 年 89 巻 5 号 p. 474-477

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抄録

シリカゲルをハロゲン化アンモニウム水溶液で処理してえられるハロゲン置換シリカゲルは固体酸性を示すが,その表面水酸基の性質について研究した。
シリカゲルの赤外吸収スペクトルを測定した結果ハロゲン置換により表面水酸基が減少することが明らかになった。これにアンモニアガスを吸着させると表面水酸基による吸収スペクトルはさらに減少し,NH4+ のための吸収が現われたゲ。一方,このハロゲン置換シリカゲルに260℃でメタノールガスを導入すると,表面水酸基がエステル化され,〓Si-OCH3を形成する。この反応により触臓面に残存する水醜の数を段階的に滅少させ融媒の酸点の数,触媒活性におよぼす影響を調べた結果,メトキシ化が進むにつれて,全酸量,1-ペンテンの2-ペンテンへの異性化反応の触媒活性が低下することが明らかとなった。このことからハロゲン置換シリカ表面に残存するハロゲン源鯛辺のシラノール基がBroinsted酸性発現に寄与していることが明らかとなった。

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