日本化学会誌(化学と工業化学)
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三酸化硫黄-塩基付加化合物によるナフタレンのスルホン化反応
志村 武彦萬田 栄一郎
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1978 年 1978 巻 11 号 p. 1532-1536

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抄録

三酸化硫黄-塩基付加化合物(SO3-base)でナフタレンをスルホン化してつぎの結果を得た。
(1)のスルホン化能力はSO3-ジオキサン>SO3-N,N-ジメチルホルムアミド>SO3-ピリジン>SO3-トリエチルァミンであり,SO3-トリエチルアミンでは反応は起こらなかった。(2)基質と等モルのSO3-ジオキサンを使用すると,モノスルホン酸が反応条件によらずに生成した。そのうちの1-スルホン酸の生成比は90~83%とほぼ0定の値を示した。(3)基質の2倍モルのSO3-IY,1Vジメチルホルムアミドを使用し180℃で反応させると主としてジスルホン酸の混合物が得られた。(4)基質の4倍モルのSO3-ピリジンを使用して250℃で反応させると主として1,3,6-トリスルホン酸が得られた。(5)溶媒中で反応を行なうと,SOrN,N-ジメチルホルムアミド,SO3-ピリジンの場合に転化率の減少と,ジスルホン酸生成量の減少が認められた。

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