大気圧Heイオン収量X線吸収微細構造法 (XAFS) による薄膜試料の分析

柳瀬 悦也; 嵩 良徳; 崎山 雅行; 東海 正國; 渡辺 巌; 原田 誠; 高橋 昌男

doi:10.11470/oubutsu1932.65.1267

柳瀬悦也, 嵩良徳, 崎山雅行, 東海正國, 渡辺巌, 原田誠, 高橋昌男

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1996 年 65 巻 12 号 p. 1267-1270

DOI https://doi.org/10.11470/oubutsu1932.65.1267

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抄録

大気圧He中で試料にX線を照射ずると, X線吸収漿に比例した数のオージェ電子が試料表面から放出され, He原子をイオン化する.このHe⁺イオンを検出ずることにより薄膜試料のX線吸収スペクトルを高感度で測定することが可能となる.本稿ではこの薄膜の構造解析に適した大気圧Heイオン収量XAFS分析法とその適用例について紹介する.

責任著者(Corresponding author)

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