日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第15回秋季シンポジウム
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立方晶Cs-リューサイト多孔質体の作製とその低熱膨張特性
松浦 周蔵玉井 幸子柳瀬 郁夫小林 秀彦
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p. 379

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抄録
Cs0.9Al0.9Si2.1O6は低熱膨張性を示すアルミノシリケート化合物である. 本研究では、Cs0.9Al0.9Si2.1O6の多孔質体をPMMAの添加により作製した. PMMAを40wt%添加すると、その多孔質体は1400℃で20hの焼成で相対密度46.1%, 熱膨張率は0.105%で小さなヒステリシスを示した. したがって、Cs0.9Al0.9Si2.1O6の多孔質体は優れた低熱膨張特性を有することが分かった.
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©  日本セラミックス協会 2002
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