メソ構造12タングステン燐酸薄膜の合成とその物性評価

抄録

トリブロックコポリマーテンプレートを用い、ヘキサゴナルのメソ構造を有するPWA (12タングスト燐酸)薄膜の合成に成功した。メソ構造フレームワーク中のPWAはブロックコポリマーの親水基(EO)部分と内部規則構造を形成しており、これにより350℃での焼成後にもPWAのメソ構造が保たれていることが分かった。膜のキャラクタリゼーションにはXRD, FT-IR, TG-DTA測定およびTEM観測などを用いた。