抄録
大型セラミックスは、おおむね300ｍｍを超える大きさのセラミックスで、半導体・液晶製造装置、検査・計測装置などの機構部品として多く使用されている。大型セラミックスは、従来はＣＩＰ成形法あるいは石膏型成形法により成形されてきたが、浸透Ｖプロセスにより大型のセラミックス成形品を鋳込成形できる見通しが得られた。そこで成形原理の追求、原料スラリーの調整、型構造の開発、成形の条件出しなどを行ない、メートル級のアルミナセラミックス（99.8％品）を成形できるようになった。現在は、各種サイズの成形品の製造を手がけるとともにさらに大きな２メートル級のセラミックスの成形に取り組んでいる。
