ＡＤ法による基板内蔵型キャパシター用BaTiO3膜の作製

抄録

本研究ではエアロゾルデポジション法によって室温でチタン酸バリウムの緻密な膜を作製した。また、作製された膜に300℃以下の比較的低温でアニール処理を施すことによって、結晶構造が回復し、透光性や誘電率が著しく高まることが分かった。さらに、原料粉を凝集させずに供給できるように装置を改良して、膜質を改善させることに成功した。